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        1. CVD设备
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          主要的磁控溅射系统方式有哪些?

          2020-07-17 08:28:36

          磁控溅射系统设备在目前镀膜行业中是一种不可缺少的镀膜器材,目前大部分镀膜企业都会有使用到。我们平日生产的时候都是由机器生产,那么大家知道目前的磁控溅射系统设备主要的溅射方式有哪几种么?下面小编就来给大家讲讲磁控镀膜设备的溅射方式。

          磁控溅射镀膜设备原理解析

          主要的磁控溅射镀膜设备可以根据其特征分为以下四种:(1)直流溅射;(2)射频溅射;(3)磁控溅射;(4)反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积.

          现在的直流溅射(也叫二级溅射)较少用到,原因是溅射气压较高,电压较高,溅射速率小,膜层不稳定等缺点.

          直流溅射发展后期,人们在其表面加上一定磁场,磁场束缚住自由电子后,以上缺点均有所改善,也是现阶段广泛应用的一种溅射方法。

          而后又有中频溅射,提高了阴极发电速率,不易造成放电、靶材中毒等现象.

          而射频溅射是很高频率下对靶材的溅射,不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料.沉积的膜层致密,附着力良好.

          如果寻找本质区别是:直流溅射是气体放电的前期,而射频是后期,我们Z常见的射频是电焊机.溅射过程所用设备的区别就是电源的区别.

          以上就是主要的磁控溅射镀膜设备的溅射方式,希望本文能够让用户对设备更加了解。

          磁控溅射系统


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