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        1. CVD设备
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          磁控溅射系统设备的主要用途

          2020-07-17 08:34:21

          磁控溅射系统设备在如今广大行业中应用非常的广泛,那么其主要用途是什么呢?可能很多新用户不是非常的了解,下面小编来给大家进行讲解一下。

          磁控溅射系统设备制备的溅射薄膜的特点

          磁控溅射系统设备的主要用途:

          1.各种功能性的薄膜镀膜。所镀的膜一般能够吸收、透射、反射、折射、偏光等效果。

          2.时装装饰领域的应用,比如说各种全反射镀膜以及半透明镀膜,可适用在手机外壳、鼠标等产品上。

          3.微电子行业领域中,其是一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气象沉积上。

          4.在光学领域中用途巨大,比如说光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻 璃和透明导电玻璃等方面得到应用。

          5.在机械行业加工中,其表面功能膜、超硬膜等等。其作用能够提供物品表面硬度从而提高化学稳定性能,能够延长物品使用周期。

          目前,磁控溅射系统设备已经被广泛的应用到广大的领域中,在各行各业中都发挥着重要的作用。

          磁控溅射系统


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