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        1. CVD设备
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          如何为CVD设备选型?

          2020-11-10 14:57:44

          如何为CVD设备选型?


          CVD是化学气相沉积的简称,是半导体工业中应用Z为广泛的用来沉积多种材料的技术,理论上即:两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内,然后他们相互之间发生化学反应,形成一种新的材料,沉积到晶片表面上。所以普通CVD实验设备则由三套及以上的设备组合而成即:高温炉(提供实验温度)+供气系统(提供多种气体混合)+真空系统(提供实验环境)。


          化学气相沉积(CVD)设备的灵活度很高,客户可根据自己实验要求选择合适的产品来组合,或者直接选择CVD套装。

          CVD设备

          一.高温炉选择一般是管式炉:高温炉为CVD实验提供材料沉积所需要的温度


          1、如何选择管式炉?查看管式炉产品。


          二、供气系统选择:


          供气系统即混气装置,它可以实现2种或者2种以上的气体或者蒸汽按照一定的比例来混合,然后通入高温炉中


          本公司根据流量计的不同分为2类


          1.气体流量计:


          浮子流量计:气体通过普通的浮子流量计粗略的估计进气量。


          质量流量计:气体通过D07质量流量计控制进气量。


          2、气液混合流量计:


          用于液体高温气化后导入CVD系统的设备,有建议版和控制版本两种可选。查看供气系统。


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