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        1. CVD设备
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          常见的CVD设备技术

          2020-12-07 09:37:50

          化学气相沉积(CVD设备)是硬质合金领域的一个重要技术突破,它借助一种或几种含有涂层元素的化合物或单质气体在放置有基材的反应室里的气相作用或在基材表面的化学反应而形成涂层,常见的CVD设备技术是以含C/N的有机物乙氰(CH3CN)作为主要反应气体,与TiCl4、H2、N2在700~900℃下产生分解、化学反应生成TiCN。涂层有效地提高了硬质合金制品表面硬度和耐磨性,延长硬质合金制品的使用寿命,减少损耗,提高机加工效率。



          20世纪60年代以来,CVD技术被普遍应用于硬质合金可转位刀具的表面处理。80年代中后期,美国已有85%硬质合金工具采用了表面涂层处理,其中CVD涂层占到99%,到90年代中期,CVD涂层硬质合金刀片在涂层硬质合金刀具中仍占80%以上。



          80年代末,Krupp.Widia开发的低温化学气相沉积(PCVD)技术达到了实用水平,其工艺处理温度已降至450~650℃,有效控制了η相的产生,可用于螺丝刀具、铣刀、模具的TiN、TiCN、TiC等涂层,但迄今为止,PCVD工艺在刀具涂层领域的应用并不普遍。


          CVD设备

          90年代中期,中温化学气相沉积(MTCVD)新技术的出现使CVD技术发生了革命性变革。采用MTCVD技术可获得致密纤维状结晶形态的涂层。涂层厚度可达8~10μm。这种涂层结构具有极高的耐磨性、抗热震性和韧性。MTCVD涂层硬质合金刀片适于在高温、高速、大负荷、干切条件下使用,其使用寿命可比普通涂层硬质合金刀片提高一倍左右。



          我国从20世纪70年代初开始研究CVD涂层技术,由于该项技术专用性较强,国内从事研究的单位不多。80年代中期,我国CVD刀具涂层技术的开发达到实用化水平,工艺技术水平与当时的国际水平相当,但在随后的十多年里发展较为缓慢。我国的低温化学气相沉积(PCVD)技术的研究始于90年代初,PCVD技术主要用于模具涂层,目前在切削刀具领域的应用也十分有限。90年代末期,我国开始中温化学气相沉积(MTCVD)技术的研发工作。


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