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        1. CVD设备
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          CVD设备的沉积制法

          2021-01-06 14:01:25

          CVD设备制法是将工件置于有氢气保护的炉内,加热到800℃以上高温,向炉内通入反应气体,使之在炉内热解,化合成新的化合物沉积在工件表面。在模具的应用中其覆膜厚度一般为6~10μm。


          CVD法具有如下特点:可在大气或低于大气压下进行沉积金属、合金、陶瓷和化合物涂层,能在形状复杂的基体上或颗粒材料上沉积涂层。涂层的化学成分和结构较易准确控制,也可制备具有成分梯度的涂层。涂层与基体的结合力高,设备简单操作方便,但它的处理温度一般为900~1200℃,工件被加热到如此高的温度会产生以下问题:


          1)工件易变形,心部组织恶化,性能下降。


          2)有脱碳现象,晶粒长大,残留奥氏体增多。

          CVD设备

          3)形成ε相和复合碳化物。


          4)处理后的母材必须进行淬火和回火。


          5)不适用于低熔点的金属材料。


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