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        1. CVD设备
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          磁控溅射设备系统的首要用途

          2021-03-18 03:15:53

          磁控溅射设备系统的首要用途

          (1)各种功用性薄膜:具有吸收,透射,反射,折射和偏振功用的薄膜。 例如,在低温下堆积氮化硅抗反射膜以进步太阳能电池的光电转化功率。

          (2)在装修范畴的使用,例如各种全反射膜和半通明膜,例如手机壳,鼠标等。

          (3)作为微电子范畴的非热镀膜技能,首要用于化学气相堆积(CVD)或金属有机

          (4)化学气相堆积(CVD)难以成长而且不适合用于资料的薄膜堆积,而且可以获得大面积的十分均匀的薄膜。

          (5)在光学范畴:IF封闭场非平衡磁控溅射技能也已使用于光学薄膜(例如抗反射涂层),低辐射率玻璃和通明导电玻璃中。 特别地,通明导电玻璃现在广泛地用于平板显示设备,太阳能电池,微波和射频屏蔽设备和设备以及传感器中。

          磁控溅射设备


          (6)在机械加工工业中,自引进以来,外表功用膜,超硬膜和自润滑膜的外表堆积技能得到了大的发展,可以有效进步外表硬度,复合耐性,耐磨性和高耐性。 温度化学稳定性。 功能,从而大大进步了涂层产品的使用寿命。

          除了已广泛使用的上述范畴外,磁控溅射镀膜仪还在高温超导薄膜,铁电薄膜,巨磁阻薄膜,薄膜发光资料, 太阳能电池和记忆合金薄膜。

          磁控溅射系统已被很多使用的范畴,还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光资料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要效果。

          (1)各种功用性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等效果的薄膜。例如,低温堆积氮化硅减反射膜,以进步太阳能电池的光电转化功率。

          (2)装修范畴的使用,如各种全反射膜及半通明膜等,如手机外壳,鼠标等。

          (3)在微电子范畴作为一种非热式镀膜技能,首要使用在化学气相堆积(CVD)或金属有机。

          (4)化学气相堆积(CVD)成长困难及不适用的资料薄膜堆积,而且可以获得大面积十分均匀的薄膜。

          (5)在光学范畴:中频闭合场非平衡磁控溅射技能也已在光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和通明导电玻璃等方面得到使用。特别是通明导电玻璃现在广泛使用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽设备与器件、传感器等。

          (6)在机械加工行业中,外表功用膜、超硬膜,自润滑薄膜的外表堆积技能自问世以来得到长足发展,能有效的进步外表硬度、复合耐性、耐磨损性和抗高温化学稳定功能,从而大幅度地进步涂层产品的使用寿命。

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